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中微公司获得发明专利授权：“一种电感耦合等离子处理装置及其刻蚀方法”

来源：星测 2025-08-09 07:08:25

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微半导体设备(上海)股份有限公司新获得一项发明专利授权，专利名为“一种电感耦合等离子处理装置及其刻蚀方法”，专利申请号为CN202011544771.9，授权日为2025年8月8日。

专利摘要：一种用于电感耦合等离子体处理装置的刻蚀方法，所述电感耦合等离子处理装置包括一反应腔，反应腔顶部包括绝缘窗和位于绝缘窗上方的电感线圈装置，其中绝缘窗中心包括一进气喷头，反应腔内还包括一基座，待处理基片位于所述基座上，所述进气喷头用于将处理气体输入反应腔中，其特征在于：所述经过进气喷头输入反应腔的处理气体包括刻蚀气体和惰性气体，其中刻蚀气体用于与待处理基片上的材料反应进行刻蚀，所述惰性气体的流量大于刻蚀气体流量的2/3。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目67次；财产线索方面有商标信息98条，专利信息1535条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可76个。

数据来源：天眼查APP

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