中微公司获得发明专利授权：“形成涂层的装置和方法、零部件和等离子体装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微半导体设备(上海)股份有限公司新获得一项发明专利授权，专利名为“形成涂层的装置和方法、零部件和等离子体装置”，专利申请号为CN202011547893.3，授权日为2025年8月8日。

专利摘要：一种形成涂层的装置和方法、零部件和等离子体装置，形成涂层的装置包括：真空腔；第一靶材和第二靶材；零部件本体，与第一靶材和第二靶材相对设置；所述第一靶材原子和第二靶材原子在零部件本体的表面形成复合耐腐蚀涂层；第一辅助监测器，用于监测第一靶材的特征信号；第二辅助监测器，用于监测第二靶材的特征信号；速率监测器，用于监测所述复合耐腐蚀涂层的形成速率，当形成速率偏离目标速率时，将偏差信号反馈至第一辅助监测器和第二辅助监测器，第一辅助监测器和第二辅助监测器分别根据第一靶材和第二靶材的特征信号的强弱变化进行独立控制各自靶材的速率，以控制复合耐腐蚀涂层形成速率的稳定性。所形成的复合耐腐蚀涂层中的均一性较好。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目67次；财产线索方面有商标信息98条，专利信息1535条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可76个。

数据来源：天眼查APP

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