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中微公司获得实用新型专利授权:“一种双腔处理系统”

来源:星测 2025-08-09 07:11:01
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证券之星消息,根据天眼查APP数据显示中微半导体设备(上海)股份有限公司新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种双腔处理系统”,专利申请号为CN202421716563.6,授权日为2025年8月8日。

专利摘要:本实用新型公开了一种双腔处理系统,包括:两个处理腔,用于分别对置于其中的基片进行工艺处理;主进气通道,与一工艺气体源相连,气体分流器组件,其设置在主进气通道上,用于将一路工艺气体分成四路工艺气体气流,并分别供应至两个处理腔内;流量调整控制单元,用于根据两个处理腔的基片处理结果控制气体分流器组件以实现对进入两个处理腔内的工艺气体气流的调整。本实用新型通过对两个处理腔内的工艺气体气流进行调整,减小两个处理腔间的刻蚀速率的差异。

通过天眼查大数据分析,中微半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了29家企业,参与招投标项目67次;财产线索方面有商标信息98条,专利信息1535条,著作权信息13条;此外企业还拥有行政许可76个。

数据来源:天眼查APP

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