中微公司获得实用新型专利授权：“等离子体处理装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微半导体设备(上海)股份有限公司新获得一项实用新型专利授权，专利名为“等离子体处理装置”，专利申请号为CN202421895114.2，授权日为2025年8月8日。

专利摘要：本实用新型公开了一种等离子体处理装置，包括：反应腔；衬底支撑件，设置在所述反应腔内，用于承载衬底，该衬底支撑件具有矩形主体；由四个侧壁围成的腔室壁；传片口，设在其中一个所述侧壁上，用于传输所述衬底；以及，设置在反应腔内的传片口屏蔽装置，用于在工艺过程中遮挡传片口的尖端，所述传片口屏蔽装置包括：屏蔽板、连接杆以及设置在反应腔外的传动机构；本申请通过采用介电材料制成的屏蔽板遮挡传片口的尖端，使传片口尖端附近的击穿电压强度远高于传片口的尖端处的电场强度，从而使传片口的尖端不易发生尖端放电现象。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目67次；财产线索方面有商标信息98条，专利信息1535条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可76个。