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中微公司获得实用新型专利授权:“一种碳化硅外延沉积设备及其基座组件”

来源:星测 2025-08-09 07:11:29
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证券之星消息,根据天眼查APP数据显示中微半导体设备(上海)股份有限公司新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种碳化硅外延沉积设备及其基座组件”,专利申请号为CN202422183670.3,授权日为2025年8月8日。

专利摘要:本实用新型提供一种碳化硅外延沉积设备及其基座组件。所述基座组件包括:基片托盘,其中心区域具有内陷的凹坑,所述凹坑用于容纳基片;旋转筒,其上部支撑所述基片托盘,所述旋转筒与吹扫气体供应单元连接;石墨材质的加热器,其设置在所述旋转筒的内部;所述旋转筒内的气体能够通过所述气体通道传输到所述基片的边缘。通过将旋转筒内部的一部分含碳元素的吹扫气体引导到基片边缘,抑制了基片边缘处的氮掺杂,从而提高基片氮掺杂浓度的均匀性。

通过天眼查大数据分析,中微半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了29家企业,参与招投标项目67次;财产线索方面有商标信息98条,专利信息1535条,著作权信息13条;此外企业还拥有行政许可76个。

数据来源:天眼查APP

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