证券之星消息,根据天眼查APP数据显示盛美半导体设备(上海)股份有限公司新获得一项发明专利授权,专利名为“双级溅液监测系统、方法及计算机可读介质”,专利申请号为CN202510594876.1,授权日为2025年8月15日。
专利摘要:本申请公开了一种双级溅液监测系统、方法及计算机可读介质,双级溅液监测系统包括防护罩、晶圆夹具、供液单元、视觉采集单元、传感器单元以及控制单元,防护罩具有开口和容纳腔;晶圆夹具位于容纳腔内,用于带动晶圆旋转;供液单元用于通过开口向容纳腔内的晶圆供应化学液;视觉采集单元用于采集包含开口在内的采集区域中化学液的第一溅液数据;传感器单元包括第一检测模块,用于检测通过开口飞溅到容纳腔外的化学液的第二溅液数据;控制单元分别与视觉采集单元和传感器单元通信连接,用于基于第一溅液数据和第二溅液数据,执行不同等级的控制操作。本申请能够实现双级溅液监测,减少晶圆报废,进而降低成本,从而显著提升经济效益。
通过天眼查大数据分析,盛美半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了17家企业,参与招投标项目168次;财产线索方面有商标信息34条,专利信息593条;此外企业还拥有行政许可32个。
数据来源:天眼查APP
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