拓荆科技获得实用新型专利授权：“抽气结构和半导体器件的加工设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技股份有限公司新获得一项实用新型专利授权，专利名为“抽气结构和半导体器件的加工设备”，专利申请号为CN202422236873.4，授权日为2025年8月15日。

专利摘要：本实用新型公开了一种抽气结构和半导体器件的加工设备。该抽气结构位于反应腔内，包括：抽气板，其表面包括若干个抽气孔；以及隔流组件，位于所述抽气板和所述反应腔底部侧的抽气通道之间，所述隔流组件包括多层隔流层，各所述隔流层上的导流孔的孔位结构与所述抽气通道的距离相关，用于分层降低从所述抽气板到所述抽气通道之间的抽气流阻。通过上述抽气结构，能够调整薄膜沉积工艺过程中的抽气流阻，提升晶圆表面抽气的均匀性，从而避免因抽气口偏心而导致抽气过程中薄膜工艺数据产生偏移，影响工艺精度的均匀性。

通过天眼查大数据分析，拓荆科技股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目98次；财产线索方面有商标信息110条，专利信息709条，著作权信息32条；此外企业还拥有行政许可31个。