晶合集成获得发明专利授权：“一种光学邻近校正模型的建模方法、系统及计算机设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示合肥晶合集成电路股份有限公司新获得一项发明专利授权，专利名为“一种光学邻近校正模型的建模方法、系统及计算机设备”，专利申请号为CN202510803572.1，授权日为2025年8月19日。

专利摘要：本发明公开了一种光学邻近校正模型的建模方法、系统及计算机设备，属于集成电路制造领域，所述光学邻近校正模型的建模方法包括以下步骤：设置包括非对称图形的标准偏差的成本函数；在每个参数下，将目标图形数据输入光学邻近校正模型，获取目标图形的模拟图形数据，并依据模拟图形数据和晶圆图形数据，获取每个参数下的成本函数；输出参数范围内成本函数最小时的光学邻近校正模型；将最小成本函数小于预设成本时，将最小成本函数对应的光学邻近校正模型作为目标光学邻近校正模型通过本发明公开的光学邻近校正模型的建模方法，可提对非对称光罩图形的光学邻近校正的准确性。

通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了9家企业，参与招投标项目630次；财产线索方面有商标信息52条，专利信息1219条，著作权信息7条；此外企业还拥有行政许可21个。

数据来源：天眼查APP

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