证券之星消息,根据天眼查APP数据显示中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司新获得一项发明专利授权,专利名为“一种应用于分子束外延设备的冷屏结构”,专利申请号为CN202511023990.5,授权日为2026年10月23日。
专利摘要:本发明属于半导体外延技术领域,具体地说是一种应用于分子束外延设备的冷屏结构,冷屏具有冷屏内、外壳,冷屏内、外壳之间通有液氮;上端收口结构的顶部开设有与冷屏内壳内部连通的开孔A,下端收口结构的底部开设有与冷屏内壳内部连通的开孔B;中部收腰结构的尺寸由中间分别向上下两端逐渐增加,在中部收腰结构中间内径最小处的上方的冷屏内、外壳上沿圆周方向均匀开设有多组束流通过孔,每组束流通过孔均为内外两个,分别开设在冷屏内、外壳上,每组的两个束流通过孔之间封闭;中部收腰结构外侧的腔体上安装有束源炉,束源炉的出口均与任意一组束流通过孔相对应。本发明具有更大的表面积,对杂质的冷凝吸附作用更强,提高设备真空度。
通过天眼查大数据分析,中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司共对外投资了5家企业,参与招投标项目1322次;财产线索方面有商标信息18条,专利信息273条,著作权信息28条;此外企业还拥有行政许可27个。
数据来源:天眼查APP
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