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蓝特光学获得发明专利授权：“采用深度强化学习的晶圆光刻工艺参数智能优化方法”

来源：星测

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2026-10-28 08:20:11

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示浙江蓝特光学股份有限公司新获得一项发明专利授权，专利名为“采用深度强化学习的晶圆光刻工艺参数智能优化方法”，专利申请号为CN202610219009.4，授权日为2026年10月23日。

通过天眼查大数据分析，浙江蓝特光学股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目89次；财产线索方面有商标信息9条，专利信息109条，著作权信息10条；此外企业还拥有行政许可33个。

数据来源：天眼查APP

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