芯源微获得发明专利授权：“一种基板超临界处理装置和处理方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示沈阳芯源微电子设备股份有限公司新获得一项发明专利授权，专利名为“一种基板超临界处理装置和处理方法”，专利申请号为CN202311858852.X，授权日为2026年10月27日。

专利摘要：本发明涉及一种基板超临界处理装置和处理基板的方法，所述一种基板超临界处理装置包括二氧化碳供给装置、CO2储存腔室、超临界处理腔室、CO2回收装置，其中CO2储存腔室设置2个以上，二氧化碳供给装置设置一个或者2个以上，一个二氧化碳供给装置可以通过液态CO2供给管路与一个或两个以上的CO2储存腔室相连，CO2储存腔室与超临界处理腔室之间通过超临界CO2供给管路相连；该处理装置通过设置两个以上并联的CO2储存腔室，可以分别将液态CO2转换为超临界CO2状态，在进行基板处理的过程中，通过CO2储存腔室之间的反复切换，能够不间断地向后续的超临界处理腔室供给超临界状态的CO2流体，以实现位于超临界处理腔室中的基板的连续处理。

通过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目384次；财产线索方面有商标信息49条，专利信息721条，著作权信息112条；此外企业还拥有行政许可81个。

数据来源：天眼查APP

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