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芯源微获得实用新型专利授权:“一种喷嘴待机容纳清洗装置”

证券之星消息,根据天眼查APP数据显示沈阳芯源微电子设备股份有限公司新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种喷嘴待机容纳清洗装置”,专利申请号为CN202522428967.6,授权日为2026年10月27日。

专利摘要:本实用新型属于半导体设备涂胶工艺技术领域,具体地说是一种喷嘴待机容纳清洗装置,包括喷嘴待机容纳盒、清洗液输送装置、清洗液输送开关阀门、保护气输送装置、气体流量调节切换结构。其中气体流量调节切换结构包括高流量气体开关阀门及低流量气体开关阀门。本实用新型可在设备进行工艺时对控制清洗液的清洗高度,并可干燥喷嘴并抑制喷嘴挂滴,而在设备不进行工艺时,保护气输送通道的喷气口可喷出微流量气体保持喷嘴待机容纳口内部气体正压,一方面抑制喷嘴待机容纳口挥发至工艺腔体以减少工艺缺陷,另一方面抑制清洗液等微液滴挥发至喷嘴造成前段光阻稀释,避免首片膜厚异常,有效提高晶圆加工质量。

通过天眼查大数据分析,沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标项目384次;财产线索方面有商标信息49条,专利信息721条,著作权信息112条;此外企业还拥有行政许可81个。

数据来源:天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理,不构成投资建议。

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