捷佳伟创获得发明专利授权：“改善抛光后白点的工艺方法及刻蚀抛光设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司新获得一项发明专利授权，专利名为“改善抛光后白点的工艺方法及刻蚀抛光设备”，专利申请号为CN202510666949.3，授权日为2026年11月6日。

专利摘要：本发明公开了改善抛光后白点的工艺方法及刻蚀抛光设备，工艺方法包括：通过第一工作段对硅片进行预处理、通过第二工作段对预处理后的硅片进行抛光处理、以及通过第三工作段对抛光处理后的硅片进行后处理；第一工作段、第二工作段、以及第三工作段均配置有抽风装置且每个工作段的抽风压力值可独立调节，选择性地增加第一工作段、第二工作段和第三工作段中至少一个工作段的抽风压力值，使该工作段的抽风压力值均超过15％×A，A为设定抽风压力下限值。本发明通过调整各工作段的抽风压力值，使得白点比例从高峰期6.73％下降到0.5％，黑斑从1.22％下降到0.3％，白点比例明显下降，产品良品率大幅提升。

通过天眼查大数据分析，深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司共对外投资了20家企业，参与招投标项目104次；财产线索方面有商标信息16条，专利信息658条，著作权信息82条；此外企业还拥有行政许可126个。

数据来源：天眼查APP

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