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半导体走到3nm制程节点不成问题

证券之星 2016-06-06 18:31:22
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世界领先的独立纳米技术研究机构--IMEC的首席执行官Luc van den Hove日前表示，“scaling(尺寸缩小)还会继续，我不仅相信它将会继续，而且我认为它不得不继续。”他认为，目前从技术层面来说，FINFET、Lateral Nanowire(横向纳米线) 和Vertical Nanowire(纵向纳米线)已经可以帮我们持续推进到3nm的制程节点。EUV光刻技术将是未来的唯一选择。

#制程# #纳米线# #节点# #Nanowire# #半导体#
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