
晶合集成公司新闻
- · 晶合集成获得发明专利授权:“背照式图像传感器及其制作方法”
- 2025-05-28 02:29:18
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体器件及其制造方法”
- 2025-05-28 02:29:17
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体器件及制备方法”
- 2025-05-28 02:28:57
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“夹钳”
- 2025-05-27 02:46:32
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“背照式图像传感器”
- 2025-05-27 02:45:49
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种夹具”
- 2025-05-27 02:43:50
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体器件的制造方法”
- 2025-05-24 03:16:09
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体器件及其制造方法”
- 2025-05-24 03:16:07
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体结构的制备方法及半导体结构”
- 2025-05-24 03:14:41
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种洗涤塔的水处理装置”
- 2025-05-24 03:13:55
- · 晶合集成获得发明专利授权:“像素单元及驱动方法、图像传感器”
- 2025-05-17 03:06:31
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体结构及其形成方法”
- 2025-05-17 03:05:53
- · 晶合集成获得发明专利授权:“反应腔室的清洁方法及反应腔室”
- 2025-05-17 03:04:37
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种半导体器件的制备方法”
- 2025-05-17 03:04:32
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种MTP器件及其制备方法”
- 2025-05-17 03:00:46
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体结构的制造方法、半导体结构和半导体集成器件”
- 2025-05-17 02:59:24
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种半导体测试结构及测试方法”
- 2025-05-14 02:52:18
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种掩膜版及测试键的摆放方法”
- 2025-05-14 02:50:52
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种浅沟槽隔离结构的制作方法”
- 2025-05-14 02:49:06
- · 晶合集成获得发明专利授权:“浅沟槽隔离结构的制备方法及半导体结构”
- 2025-05-14 02:48:58
- · 晶合集成获得发明专利授权:“冗余通孔插入方法、系统和集成电路结构”
- 2025-05-14 02:48:36
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种物理气相沉积设备”
- 2025-05-13 02:49:58
- · 晶合集成获得发明专利授权:“LDMOS器件及其形成方法”
- 2025-05-10 02:59:44
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种半导体器件的形成方法”
- 2025-05-10 02:59:44
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种半导体结构的制备方法”
- 2025-05-10 02:59:26
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种洗涤塔的水处理装置”
- 2025-05-09 02:26:02
- · 晶合集成获得发明专利授权:“背照式图像传感器的制备方法及背照式图像传感器”
- 2025-05-07 02:45:09
- · 晶合集成获得发明专利授权:“镍硅化物的形成方法及半导体器件”
- 2025-05-03 02:25:45
- · 晶合集成(688249)2025年一季报简析:营收净利润同比双双增长,公司应收账款体量较大
- 2025-04-30 06:38:43
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种涂胶显影机台的清洗装置及涂胶显影机台”
- 2025-04-30 03:57:59
- · 晶合集成获得发明专利授权:“背照式图像传感器及其制备方法、电子设备”
- 2025-04-26 03:45:15
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种LDMOS器件的制备方法、LDMOS器件”
- 2025-04-26 03:45:13
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种光学临近校正方法”
- 2025-04-26 03:45:09
- · 晶合集成获得发明专利授权:“存储单元结构与存储器件”
- 2025-04-26 03:44:58
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种超结半导体器件及其制备方法”
- 2025-04-26 03:44:46
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体测试结构及半导体测试方法”
- 2025-04-26 03:44:42
- · 晶合集成获得发明专利授权:“背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器”
- 2025-04-26 03:44:26
- · 晶合集成获得发明专利授权:“参数控制界限审核方法、装置、计算机设备”
- 2025-04-26 03:44:25
- · 晶合集成获得发明专利授权:“提高晶圆离子注入均匀性的方法”
- 2025-04-26 03:44:23
- · 晶合集成获得发明专利授权:“背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器”
- 2025-04-26 03:44:13
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体量测结构”
- 2025-04-26 03:43:51
- · 晶合集成获得发明专利授权:“掩膜版结构和光刻方法”
- 2025-04-26 03:43:51
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种半导体器件的制备方法及半导体器件”
- 2025-04-26 03:43:42
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体器件及其制备方法”
- 2025-04-26 03:43:21
- · 晶合集成获得发明专利授权:“晶圆探针测试校准方法、装置、设备、介质和产品”
- 2025-04-26 03:43:12
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种OPC建模方法、系统及计算机可读存储介质”
- 2025-04-26 03:43:05
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体结构及其制备方法”
- 2025-04-26 03:43:04
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种MOS器件及其制备方法”
- 2025-04-26 03:42:53
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“测试结构”
- 2025-04-25 04:11:02
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体器件化学气相沉积成膜厚度的控制系统及控制方法”
- 2025-04-23 03:12:43