
晶合集成公司新闻
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种图像传感器”
- 2025-04-01 03:11:30
- · 【ESG动态】晶合集成(688249.SH)获华证指数ESG最新评级BBB,行业排名第16
- 2025-03-31 09:02:53
- · 晶合集成获得发明专利授权:“掩模板的图案修正方法及其系统”
- 2025-03-29 03:38:37
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体结构及其制备方法”
- 2025-03-29 03:38:33
- · 晶合集成获得发明专利授权:“背照式图像传感器及其制备方法、电子设备”
- 2025-03-29 03:38:31
- · 晶合集成获得发明专利授权:“背照式图像传感器及其制备方法、电子设备”
- 2025-03-29 03:34:19
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体结构及其制作方法”
- 2025-03-29 03:33:31
- · 晶合集成获得发明专利授权:“图像传感器及其制备方法、电子设备”
- 2025-03-29 03:33:09
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种光罩”
- 2025-03-29 03:32:26
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种喷头和气枪”
- 2025-03-29 03:32:21
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种半导体结构的制备方法及半导体结构”
- 2025-03-26 02:55:59
- · 晶合集成获得发明专利授权:“背照式半导体结构键合方法及背照式图像传感器”
- 2025-03-26 02:55:54
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体结构制备方法及半导体结构”
- 2025-03-26 02:55:51
- · 晶合集成获得发明专利授权:“背照式图像传感器及其制备方法”
- 2025-03-26 02:55:19
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体结构”
- 2025-03-26 02:55:16
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体线路修补方法及半导体测试方法”
- 2025-03-26 02:54:19
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体结构、半导体结构的制造方法以及CMOS器件”
- 2025-03-26 02:54:14
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体器件及其电气特性计算中的校准方法”
- 2025-03-26 02:54:13
- · 晶合集成获得发明专利授权:“背照式图像传感器及其制备方法、电子设备”
- 2025-03-26 02:54:04
- · 晶合集成获得发明专利授权:“多尺寸沟槽的制备方法、背照式图像传感器的制备方法”
- 2025-03-26 02:53:43
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种半导体结构的制备方法”
- 2025-03-26 02:53:20
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体器件、制备方法、读写方法及存储器”
- 2025-03-26 02:53:09
- · 晶合集成获得发明专利授权:“图像传感器及其制造方法”
- 2025-03-26 02:53:08
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“炉管及其进气装置”
- 2025-03-25 02:59:57
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“半导体测试结构”
- 2025-03-25 02:58:19
- · 晶合集成获得发明专利授权:“漏电测试方法、设备、装置、介质和产品”
- 2025-03-22 03:24:39
- · 晶合集成获得发明专利授权:“掩膜版及其形成方法”
- 2025-03-22 03:24:17
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体量测方法和量测主站点”
- 2025-03-22 03:22:36
- · 没普通打工人的份:700亿芯片龙头股权激励对象仅有7人 同行业公司多达上千人
- 2025-03-20 20:44:44
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种改善光刻胶与晶圆粘附性的方法”
- 2025-03-19 02:52:51
- · 晶合集成获得发明专利授权:“电阻值的测量设备及测量方法”
- 2025-03-19 02:52:41
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种半导体测试结构及其制作方法”
- 2025-03-19 02:52:39
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体器件的接触孔的形成方法及半导体器件结构”
- 2025-03-19 02:52:19
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体栅极结构的制备方法及半导体结构”
- 2025-03-19 02:51:17
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体结构的制造方法、半导体结构及CMOS电路”
- 2025-03-19 02:51:08
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种掩膜版及晶圆的切割道结构”
- 2025-03-19 02:50:27
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种优化光刻机临界尺寸均匀性的方法”
- 2025-03-15 03:28:12
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种半导体结构”
- 2025-03-15 03:28:01
- · 晶合集成获得发明专利授权:“掩膜图案的生成方法、半导体封装器件及制造方法”
- 2025-03-15 03:27:38
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种晶舟的固定治具”
- 2025-03-15 03:27:20
- · 晶合集成获得发明专利授权:“半导体器件及其制作方法”
- 2025-03-15 03:24:37
- · 晶合集成获得发明专利授权:“管控芯片版图的方法、电子设备及计算机可读存储介质”
- 2025-03-15 03:23:58
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种光罩”
- 2025-03-14 02:40:53
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种喷头和气枪”
- 2025-03-14 02:40:50
- · 晶合集成获得发明专利授权:“多次可编程器件及其制造方法”
- 2025-03-12 03:01:07
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种掩模版的修正方法及系统”
- 2025-03-12 03:00:53
- · 晶合集成获得发明专利授权:“提高氮化硅和氧化硅蚀刻选择比的方法及掩膜层蚀刻方法”
- 2025-03-12 02:59:40
- · 晶合集成获得发明专利授权:“一种多次可编程器件及电子设备”
- 2025-03-12 02:59:19
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种晶圆镀膜的喷淋装置以及晶圆镀膜设备”
- 2025-03-11 03:11:49
- · 晶合集成获得实用新型专利授权:“一种用于ESD保护的SCR器件和静电保护电路”
- 2025-03-11 03:10:16